磁控濺射鍍膜設備工作是怎么樣的

2021-01-08 16:45:15

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磁控濺射是指電子在電場作用下被加速到基板時，電子與氬原子發(fā)生碰撞，使大量的氬離子和電子電離，電子飛向基板。它使用高壓電場激發(fā)產(chǎn)生等離子涂層材料，該材料幾乎適用于所有高熔點金屬，因此成本高于真空涂層方法，但磁控濺射方法與真空涂層相比具有涂層方法制造工藝具有與基材層的結合力強，涂層致密均勻的優(yōu)點。

磁控濺射鍍膜設備

磁控濺射真空鍍膜設備是現(xiàn)有產(chǎn)品在真空條件下進行鍍膜的最常用設備。完整的磁控濺射真空鍍膜機由多部分系統(tǒng)組成，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。磁控濺射鍍膜的功能包括真空室，機械泵，真空測試系統(tǒng)，油擴散泵，真空系統(tǒng)，冷凝液泵和薄膜控制。系統(tǒng)等，以實現(xiàn)最終的高質量涂層。

真空鍍膜機：鍍膜主要包括真空磁控濺射法，真空蒸發(fā)法，化學氣相沉積法和溶膠-凝膠法。磁控濺射鍍膜玻璃可以利用磁控濺射技術設計和制造多層復合膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以在白色玻璃基板上涂覆多種顏色。 IPG手表涂層機，該膜具有更好的耐腐蝕性和耐磨性。，是目前生產(chǎn)和使用最頻繁的產(chǎn)品之一。與磁控濺射鍍膜玻璃相比，真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質量有一定差距，已逐漸被真空濺射代替?；瘜W氣相沉積法是將反應氣體引入浮法玻璃生產(chǎn)線以在熱玻璃表面上分解，并均勻地沉積在玻璃表面上以形成鍍膜玻璃。