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真空鍍膜系統(tǒng)主要構(gòu)成部分二

2020-11-12 16:42:51

六、機(jī)械傳動(dòng)部件

涂裝時(shí),要求周圍的厚度均勻一致,這樣涂裝時(shí)需要三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量才能滿足要求。也就是說(shuō),當(dāng)需要大的工件臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)(I)時(shí),小的工件臺(tái)也需要轉(zhuǎn)動(dòng)(II),而且工件本身也可以旋轉(zhuǎn)(III)。就機(jī)械設(shè)計(jì)而言,一般是在大工件盤底中心有一個(gè)大的活動(dòng)齒輪,周圍有幾個(gè)小的星行輪與之嚙合,若要實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品自轉(zhuǎn),一般用撥叉來(lái)?yè)軇?dòng)工件。

七,加熱和測(cè)溫部件。

涂裝設(shè)備一般采用不同位置的加熱器,利用熱電偶控制溫度。但由于熱電偶夾頭與工件位置不同,溫度讀數(shù)不能作為實(shí)際工件溫度。測(cè)量工件實(shí)際溫度有多種方法,可在工件上安裝高溫試紙或熱偶計(jì)。

離子蒸發(fā)和濺射光源。

真空鍍膜系統(tǒng)

多弧噴涂蒸發(fā)源一般是圓餅型,俗稱圓餅型,也有長(zhǎng)方形多弧噴涂。靶內(nèi)裝有磁體,通過(guò)前后移動(dòng)磁體,改變磁場(chǎng)強(qiáng)度,可以調(diào)節(jié)弧斑移動(dòng)速度和軌跡。為降低目標(biāo)和靶座溫度,需要在靶座內(nèi)連續(xù)地注入冷卻水。同時(shí),為保證高導(dǎo)率和高導(dǎo)率熱傳導(dǎo)性,還可在目標(biāo)與靶座之間設(shè)置錫襯墊。磁控制濺射膜通常采用矩形或圓柱形濺射陰極。

九、水冷卻系統(tǒng)

通常包括冷水塔,冰水機(jī),水泵等。

十工控系統(tǒng)。


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