LOW-E,也稱為鍍膜玻璃,分為在線鍍膜和離線鍍膜!性能優(yōu)勢(shì):導(dǎo)電性,節(jié)能,防紫外線等。LOW-E玻璃,也稱為low-e玻璃,在玻璃表面或由薄膜產(chǎn)品組成的其他化合物上涂覆了多層金屬。其涂層具有可見光透射率高,中,遠(yuǎn)紅外反射率高的特點(diǎn),與普通玻璃和傳統(tǒng)建筑涂層玻璃相比,具有優(yōu)異的隔熱效果和良好的隔熱性。透光率。
真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜。實(shí)際上,該工藝可以沉積氧化物,碳化物和氮化物材料的任何薄膜。此外,該工藝還特別適用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積,包括光學(xué)設(shè)計(jì),彩色膜,耐磨涂層,納米層壓板,超晶格涂層,絕緣膜等。早在1970年,就有高質(zhì)量光學(xué)薄膜沉積箱,并開發(fā)了各種光學(xué)薄膜材料。這些材料包括透明導(dǎo)電材料,半導(dǎo)體,聚合物,氧化物,碳化物和氮化物。至于氟化物,它們主要用于蒸發(fā)鍍膜等工藝中。
可以根據(jù)不同的設(shè)備配置不同角度的安裝頭;安裝使用20個(gè)不銹鋼管和復(fù)合法蘭,適用于高真空和高純度涂層。此外,還可以根據(jù)客戶需要設(shè)計(jì)其他特殊功能。圓形磁控濺射靶的應(yīng)用領(lǐng)域。靶直徑為50150mm,主要用于大學(xué)和科研機(jī)構(gòu)的研究磁控濺射鍍膜設(shè)備;直徑為150mm或更大的目標(biāo)是使用http // magnetic的生產(chǎn)型磁控濺射鍍膜設(shè)備。受控濺射鍍膜用動(dòng)能為數(shù)十電子伏特或更高的帶電粒子轟擊材料表面,從而使原子獲得足夠的能量以濺入氣相。這種濺射的復(fù)雜粒子散射過程稱為濺射。濺射涂層位于真空室內(nèi),使用帶電粒子轟擊材料表面,使原子獲得足夠的能量。
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