具有不同涂層工藝的真空涂層機(jī)使用不同的自動(dòng)控制系統(tǒng)，甚至具有相同涂層工藝的真空涂層機(jī)也會(huì)由于控制技術(shù)指標(biāo)的不同而使用不同的控制系統(tǒng)。通用鍍膜設(shè)備自動(dòng)控制系統(tǒng)的基本組成部分是微機(jī)，自動(dòng)控制設(shè)備，工業(yè)自動(dòng)化儀表，壓力控制器，真空計(jì)和一些自動(dòng)控制組件等，可以實(shí)現(xiàn)真空鍍膜設(shè)備程序的自動(dòng)控制，切換鍍膜工藝流程，基本功能，如調(diào)整真空工藝參數(shù)。

在選擇真空鍍膜機(jī)的控制系統(tǒng)時(shí)，前提是它能有效滿足真空鍍膜設(shè)備及其鍍膜過程的控制要求，注意真空鍍膜設(shè)備的各種結(jié)構(gòu)與自動(dòng)控制之間的配合程度。系統(tǒng)，并且要求自動(dòng)控制系統(tǒng)具有簡單的結(jié)構(gòu)，經(jīng)濟(jì)的，不一定是很高的自動(dòng)化程度，而是要確保真空鍍膜設(shè)備的安全性，可靠性，操作方便和易于維護(hù)?？刂葡到y(tǒng)在選擇自動(dòng)控制設(shè)備及其部件和自動(dòng)儀表時(shí)應(yīng)合理。

真空鍍膜是高溫下薄膜主體的蒸發(fā)，使其在工件表面上結(jié)晶。由于空氣將對蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力，并引起碰撞，使晶體粗糙而晦暗，因此必須在高真空下使晶體細(xì)膩明亮。如果真空度不高，晶體將失去光澤，并且粘合力也非常差。中頻磁控濺射靶利用磁控靶，在電場的作用下加速膜體蒸發(fā)分子對靶材料的轟擊，濺射大量靶原子和中性靶原子（或分子）。 ）沉積在基板上。膜解決了過去自然蒸發(fā)無法處理的膜品種問題。中頻設(shè)備由于其高頻和大電流而必須添加冷卻水。當(dāng)電流在導(dǎo)體中流動(dòng)時(shí)，會(huì)產(chǎn)生集膚效應(yīng)，電荷會(huì)積聚在導(dǎo)體表面，從而使導(dǎo)體發(fā)熱，因此使用中孔管作為導(dǎo)體以添加水進(jìn)行冷卻。