真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控管等一系列新技術，使薄膜成為一種新的制備工藝。簡單地說，它是一種將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，使其固化并沉積在被涂基材上的方法，稱為真空涂層。真空鍍膜是一種需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。

在真空鍍膜過程中，磁控濺射靶在發(fā)射過程中會產(chǎn)生高溫，導致靶體變形，因此磁控濺射靶體有水套來冷卻靶體。

為了保證水套內(nèi)的水溫不受環(huán)境和自然溫度的影響，通常需要使用冷水機對真空鍍膜機進行冷卻。真空鍍膜冷水機可將水溫穩(wěn)定在5℃~30℃，進行調(diào)節(jié)和控制，有效控制真空鍍膜機的溫度，提高鍍膜件的質量。薄膜是在真空中制備的，包括簡單或復合薄膜，如結晶金屬、半導體和絕緣體。

化學氣相沉積雖然也采用減壓、低壓或等離子等真空方法，但真空鍍膜一般是指沉積薄膜的物理方法。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。真空鍍膜的通用性也決定了其廣泛的應用范圍。總的來說，真空鍍膜的主要作用是使鍍膜零件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，使鍍膜對鍍膜材料具有優(yōu)異的阻隔性能，并具有良好的電磁屏蔽和導電效果。