磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是一種在真空條件下對(duì)現(xiàn)有產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜的設(shè)備。一臺(tái)完整的磁控濺射真空鍍膜機(jī)由多個(gè)系統(tǒng)組成，每個(gè)系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的鍍膜。磁控濺射鍍膜由真空室、機(jī)械泵、真空測(cè)試系統(tǒng)、油擴(kuò)散泵、真空泵系統(tǒng)、冷凝泵和成膜控制系統(tǒng)等組成。

根據(jù)產(chǎn)生和沉積蒸汽金屬的不同方式，真空鍍膜可分為熱蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種工藝。其中，磁控濺射法因其涂層與基體的附著力強(qiáng)、涂層致密均勻等優(yōu)點(diǎn)而具有更多的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。真空鍍膜材料主要是金屬和金屬氧化物。金屬模具涂層材料包括鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等；合金鍍層材料包括鎳鉻、鎳鐵、鐵鈷、金銀金等。金屬化合物包括二氧化硅、二氧化鈦、二氧化錫等。其中，鋁的應(yīng)用最為廣泛。這主要是因?yàn)殇X的蒸發(fā)溫度低，操作方便，對(duì)塑料的附著力好，對(duì)紫外線和氣體的阻隔性強(qiáng)，價(jià)格低廉。

磁控濺射是一種物理氣相沉積，用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等材料的薄膜。在實(shí)際鍍膜過(guò)程中，沉積速率、濺射功率、濺射時(shí)間、靶材與襯底的距離、工作壓力等都會(huì)影響鍍膜質(zhì)量和厚度。在磁控濺射鍍膜中，隨著使用次數(shù)的增加，靶材被消耗，靶材與襯底之間的距離變大。當(dāng)其他參數(shù)不變時(shí)，鍍膜會(huì)逐漸達(dá)不到要求。磁場(chǎng)的均勻性影響薄膜的均勻性。如果磁場(chǎng)不對(duì)稱，會(huì)造成鍍膜位置的偏移。