磁控濺射真空鍍膜機看點

2021-03-12 23:46:17

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磁控濺射真空鍍膜機
磁控濺射法是一種涉及氣體等離子體的沉積技術(shù) ，產(chǎn)生的等離子氣被限制在含有待沉積物質(zhì) 的空間里，而濺射靶的表面被等離子體中的高能離子所侵蝕，這些等離子體釋放的原子穿過真空環(huán)境，再沉積到基片上形成薄膜。

(1)無論熔化溫度如何，幾乎所有材料都可通過磁控濺射法沉積
(2)可根據(jù) 基材和涂層的要求調(diào)整光源，并將其放置在腔內(nèi)的任何位置
(3)可沉積合金和化合物的薄膜，但成分與原材料相似

1、建材及民用工業(yè)中

2、在鋁合金制品裝飾中的應(yīng)用

3、高檔產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用

4、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用

5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用
磁控制濺射膜的注意事項

高檔產(chǎn)品零配件表面裝飾鍍層的應(yīng)用。在不銹鋼刀片涂裝工藝中的應(yīng)用。在玻璃深加工行業(yè) 中的應(yīng)用情況。

輻射：一些鍍膜用到射頻電源上，如功率大，須作屏蔽處理 .此外，歐洲標(biāo)準(zhǔn)的單室鍍膜機門框內(nèi)嵌裝金屬線以屏蔽輻射。
2、金屬污染：鍍膜材料 (如鉻、銦、鋁等)對人體有害，尤其要注意真空室清理過程中產(chǎn)生的粉塵污染。
3、噪音污染：如特別是一些大型鍍膜設(shè)備，機械真空泵噪音大，可將泵隔絕于墻外。
4、光污染：離子鍍膜過程中，氣體電離放出強光，不宜長時間透過觀察窗久看.