磁控濺射是一種物理氣相沉積方法

2020-12-11 14:49:51

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真空鍍膜的作用主要是給鍍零件的表面高度的金屬光澤和鏡像效果,尤其是對汽車燈罩,它有一個非常重要的聚光效果,其次給屏障性能優(yōu)良的涂料層,提供良好的電磁屏蔽和導電性的影響。根據(jù)制備氣相金屬的方法和鍍膜的沉積方法，將真空鍍膜分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中磁控濺射法具有涂層層與基體結(jié)合力強、涂層致密均勻等優(yōu)點，具有較大的技術(shù)優(yōu)勢。真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物(通常為非金屬)以蒸汽的形式沉積在材料的表面。它是一種物理氣相沉積過程，因為涂層往往是鋁、錫、銦等金屬的薄膜，所以也稱為真空金屬化。

磁控濺射

磁控濺射是一種物理氣相沉積方法，用于制備各種材料的薄膜，如金屬、半導體和絕緣體。在實際的鍍膜過程中，沉積速率、濺射功率、濺射時間、靶材與基體之間的距離、工作壓力等都會影響到鍍膜的質(zhì)量和厚度。在磁控濺射鍍膜中，隨著使用次數(shù)的增加，靶材被消耗，靶基距離增大。

在其他參數(shù)不變的情況下，被涂膜逐漸不能滿足要求。磁場的均勻性影響薄膜的均勻性。如果磁場不對稱，鍍層的位置就會改變。磁控濺射是20世紀70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜方法。由于它有效地克服了陰極濺射率低和基片因電子而溫度升高的缺陷，得到了迅速發(fā)展和廣泛應用。