蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍是真空鍍膜技術(shù)的三種形式，基于這三種技術(shù)的真空鍍膜設備是實現(xiàn)高質(zhì)量、高性能鍍膜的關(guān)鍵。以磁控濺射鍍膜設備為例，在真空環(huán)境中，帶電的氬氣通過高壓電場和磁場處于離子態(tài)，撞擊靶材料，靶原子沖向基底形成膜層。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術(shù)為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控管等一系列新技術(shù)?？茖W研究和實際生產(chǎn)為薄膜制備提供了一種新的方法。簡單地說，將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射固化并沉積在被涂覆物(稱為基板、基板或基板)上的方法稱為真空鍍膜。

目前，薄膜加工技術(shù)廣泛應用于半導體行業(yè)和精密機械領域。安全真空釬焊爐由于采用了薄膜工藝技術(shù)，生產(chǎn)出了高附加值的產(chǎn)品，因此薄膜工藝技術(shù)和薄膜材料被廣泛應用于研究，實際上也帶來了涂層技術(shù)的快速發(fā)展。一般來說，鍍膜方法主要有離子鍍膜法、射頻磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法等。然而，隨著集成電路的密度和小型化以及機械精度的提高，對鍍層厚度的要求也越來越嚴格。安全真空釬焊爐提供了多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)。該系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)組成。它可以在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)，并附著在手套盒上。

樣品的儲存、制備以及氣相沉積后樣品的檢測都是在高純度惰性氣體氣氛下進行的。