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真空鍍膜廠家告訴你發(fā)展趨勢

2021-03-17 17:05:43

1)增強ARE型。利用電子束進行加熱;充入Ar,其它惰性氣體,反應氣體氧氣,氮氣等;離化方式:探極除吸引電子束的一次電子,二次電子外,增強極發(fā)出的低能電子也可促進氣體離化。真空蒸發(fā)這種方法的特點是:基板溫升小,

要對基板加;可用于鍍機械制品,電子器件,裝飾品。


2)低壓等離子體離子鍍(LPPD)。利用電子束進行加熱;依靠等離子體使充入的惰性氣體,反應氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,結構簡單,能獲得氧化鋁,氮化鈦,碳化鈦等離子化合物鍍層;可用于鍍機械制品,電子器件,裝飾品。

 

3)真空泵電場蒸發(fā)。利用電子束進行加熱依靠電子束形成的金屬等離子體進行離化。這種方法的特點是:基板溫升小,要對基板加熱,帶電場的真空蒸鍍,鍍層質量好;可用于鍍電子器件,音響器件。

 

4)感應離子加熱鍍。利用高頻感應進行加熱;依靠感應漏磁進行離化。這種方法的特點是:基板溫升小,能獲得化合物鍍層;可用于機械制品,電子器件,裝飾品。

 

5)集團離子束鍍。利用電阻加熱,從坩鍋中噴出集團狀蒸發(fā)顆粒。依靠電子發(fā)射或從燈絲發(fā)出電子的碰撞作用進行離化。這種方法的特點是:基板溫升小,即能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜,如氧化鋅等;可用于鍍電子器件,音響器件。

 

6)多弧離子鍍。利用陰極弧光進行加熱;依靠蒸發(fā)原子束的定向運動使反應氣體(或真空)離化。這種方法的特點是:基板溫升較大,離化率高,沉積速率大;可用于鍍機械制品,刀鋸,模具。

 

真空鍍膜技術的發(fā)展趨勢

科技發(fā)展愈來愈快,信息高速公路,數(shù)字地球等新概念的提出,影響和帶動了全球高科技的發(fā)展,目前,生命科學,環(huán)??萍迹牧峡茖W和納米科技是高科技重點研究的領域;納米科技中又以納米電子學為優(yōu)先研究領域。 

 

目前計算機和信息技術的基礎是超大規(guī)模集成電路;但下個世紀的基本元件將是納米電子集成電路。它是微電子器件的下一代,有自己的理論,技術和材料?,F(xiàn)有微電子器件的主要材料是極純的硅,鍺等晶體半導體。納米電


子器件有可能是以有機或無機復合晶體薄膜為主要原理,要求純度更高,結構更完善。真空制備的清潔環(huán)境,有希望加工組裝出納米電子器件所要求的結構。 

 

總之,表面和薄膜科學,微電子器件及納米技術等迅速發(fā)展,將使一起開發(fā)和檢測方法體系研究成為真空鍍膜技術中的發(fā)展重點;而電子束蒸發(fā)源將是真空鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。

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