磁控濺射技術(shù)是一種起源于較早的技術(shù),但仍可以發(fā)揮重要作用。其優(yōu)越性不僅體現(xiàn)在涂料上,還滲透到各個行業(yè)。今天,我國濺射技術(shù)水平與以前相比有了重大突破。隨著時代的進步和現(xiàn)代工業(yè)化生產(chǎn)的要求,社會對磁控濺射技術(shù)的要求越來越高。這就要求一大批科研人員繼續(xù)深入探索,進一步研究和改進這項技術(shù),提高其準確性和功能。,滿足現(xiàn)代工業(yè)日益增長的需求,更好地為社會發(fā)展和科學進步做出貢獻。
目前,磁控濺射涂層的研究越來越頻繁。磁龍濺射是低壓下高速濺射,必須有效提高氣體的電離率。一種通過引入目標陰極表面的磁場,利用磁場限制帶電粒子來增加濺射速率來增加等離子體密度的方法。利用外部磁場捕獲電子,擴展和抑制電子的運動路徑,實現(xiàn)高電離率,提高鍍膜率。
在磁龍目標的濺射涂過程中,由于磁控器目標的陰極陽極距離被確定為基本恒定值,工作氣體的壓力可能在一定范圍內(nèi)變化(例如,0.1Pa~10Pa)。點火電壓影響較大,變化的一般趨勢是:隨著工作氣體壓力的逐漸增大,磁控目標點火電壓也相應降低。不同材料的不同磁控目標和目標具有不同的工作氣體壓力,用于目標點火。
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