磁控濺射技術(shù)是一項(xiàng)起源較早，但至今仍能發(fā)揮巨大作用的技術(shù)。其優(yōu)勢(shì)不僅體現(xiàn)在涂料上，還滲透到各個(gè)行業(yè)。到目前為止，我國(guó)的濺射技術(shù)水平與前一個(gè)相比有了很大的突破。隨著時(shí)代的進(jìn)步和現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的需求，社會(huì)對(duì)磁控濺射技術(shù)的要求越來(lái)越高，這就要求研究人員對(duì)這項(xiàng)技術(shù)進(jìn)行進(jìn)一步的研究和改進(jìn)，提高其精度和功能，滿足現(xiàn)代工業(yè)日益增長(zhǎng)的需求，更好地為社會(huì)發(fā)展和科學(xué)進(jìn)步做出貢獻(xiàn)。

目前，磁控濺射鍍膜的研究較多。磁控濺射是在低壓下進(jìn)行高速濺射，需要有效提高氣體的電離率。通過(guò)在靶的陰極表面上引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)增加濺射速率，從而增加等離子體密度。利用外磁場(chǎng)捕獲電子，延伸并束縛電子的運(yùn)動(dòng)路徑，使電離率高，鍍膜率增加。

在磁控靶的濺射鍍膜過(guò)程中，由于磁控靶的陰極-陽(yáng)極距離一旦確定就是一個(gè)恒定值，工作氣壓在一定范圍內(nèi)(例如0.1Pa~10Pa)的變化可能對(duì)點(diǎn)火電壓有很大的影響?？偟淖兓厔?shì)是，隨著工作氣體壓力的逐漸增加，磁控管靶的點(diǎn)火電壓相應(yīng)降低。不同的磁控靶和不同材料的靶有不同的靶點(diǎn)火工作氣壓。