真空鍍膜的功能

2020-11-16 17:37:55

次

真空鍍膜的功能主要是賦予鍍層表面高度的金屬光澤和鏡面效果，特別是具有非常重要的光收集效果的汽車燈罩，其次賦予鍍層優(yōu)異的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。真空鍍膜按照生產(chǎn)氣相金屬的方法和涂料的沉積方法分為兩個(gè)過(guò)程：熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。其中，磁控濺射法具有鍍膜層與基材結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜密度大、均勻，具有較強(qiáng)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境中以蒸汽的形式將某種金屬或金屬化合物沉積在材料表面（通常是非金屬）。這是一個(gè)物理氣相沉積過(guò)程，因?yàn)殄兡油卿X、錫、鈦和其他金屬的薄膜，所以也被稱為真空金屬化。

真空鍍膜

磁龍濺射是一種物理氣相沉積，用于準(zhǔn)備各種材料（如金屬、半導(dǎo)體和絕緣體）的薄膜。在實(shí)際涂裝過(guò)程中，沉積速率和濺射功率、濺射時(shí)間、目標(biāo)與基材之間的距離以及工作壓力會(huì)影響涂層的質(zhì)量和厚度。在磁龍濺射涂層中，隨著使用數(shù)量的增加，目標(biāo)材料被消耗，目標(biāo)基距離變大。當(dāng)其他參數(shù)保持不變時(shí)，涂層膜將逐漸不能滿足要求。磁場(chǎng)的均勻性影響薄膜的均勻性。如果磁場(chǎng)不對(duì)稱，涂層位置將發(fā)生變化。

磁龍濺射是一種在20世紀(jì)70年代陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新型濺射涂裝法。由于它有效地克服了低陰極濺射率和電子對(duì)基板溫度升高的致命弱點(diǎn)，具有快速發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。