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電子束真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)源蒸鍍法介紹

2022-06-15 16:20:14

電子束真空鍍膜機(jī)揮發(fā)源蒸鍍法,將蒸發(fā)原材料放進(jìn)水冷鋼坩鍋中,立即運(yùn)用電子束加溫,使揮發(fā)原材料汽化揮發(fā)后凝固在基材表層涂膜,是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種主要的加溫方式和發(fā)展前景。電子束揮發(fā)擺脫了一般電阻絲加熱揮發(fā)的很多缺陷,尤其合適制做溶點(diǎn)塑料薄膜原材料和高純度塑料薄膜原材料。借助電子束負(fù)電子揮發(fā)的真空泵蒸鍍技術(shù),依據(jù)電子束揮發(fā)源的方式不一樣,又可分成環(huán)狀槍,直槍,e型槍和中空負(fù)極射線管等幾類。

電子束真空鍍膜機(jī)

環(huán)狀槍是由環(huán)形的負(fù)極來(lái)發(fā)送電子束,經(jīng)對(duì)焦和偏移后打在坩鍋內(nèi)使金屬原材料揮發(fā)。它的構(gòu)造較簡(jiǎn)易,可是輸出功率和高效率也不高,大部分僅僅一種試驗(yàn)室用的機(jī)器設(shè)備,現(xiàn)階段在生產(chǎn)制造的設(shè)備中早已不會(huì)再應(yīng)用。

直槍是一種中心對(duì)稱的直線加速槍,電子器件從鎢絲負(fù)極發(fā)送,聚大細(xì)束,經(jīng)陽(yáng)極氧化加快后打在坩鍋使得鍍膜原材料溶化和揮發(fā)。直槍的輸出功率從幾百瓦至幾百千瓦的都是有,有的可用以真空蒸發(fā),有的可用作真空泵冶煉廠。直槍的不足之處是蒸鍍的資料會(huì)環(huán)境污染槍身構(gòu)造,給運(yùn)作的可靠性產(chǎn)生艱難,與此同時(shí)發(fā)送鎢絲上逸出的鉀離子等也會(huì)造成膜層的環(huán)境污染,近期由西德公司科學(xué)研究,在電子束的出入口設(shè)定偏移電磁場(chǎng),并在鎢絲位置做成一套單獨(dú)的抽真空系統(tǒng)軟件而制成直槍的改善方式,不僅完全干便了鎢絲對(duì)膜的環(huán)境污染,并且還有益于提升槍的使用壽命。

e型射線管,即270℃偏移的射線管擺脫了直槍的缺陷,是現(xiàn)階段用的較多的電子束揮發(fā)源之一。e型射線管可以造成許多的功率,能溶化高溶點(diǎn)的金屬,造成的揮發(fā)顆粒動(dòng)能高,使膜層和底材融合堅(jiān)固,涂膜的產(chǎn)品質(zhì)量不錯(cuò)。缺陷是射線管規(guī)定較高的真空值,并必須應(yīng)用負(fù)髙壓,這種導(dǎo)致了機(jī)器設(shè)備構(gòu)造繁瑣,安全系數(shù)差,不容易維護(hù)保養(yǎng),工程造價(jià)也較高。

電子束真空鍍膜機(jī)中空負(fù)極射線管是運(yùn)用低壓,大工作電流的中空負(fù)極充放電造成的低溫等離子電子束做為加溫源。中空負(fù)極射線管用中空的鉭管做為負(fù)極,坩鍋?zhàn)鰹殛?yáng)極氧化,鉭管周邊配有輔助陽(yáng)極氧化。運(yùn)用中空負(fù)極射線管蒸鍍時(shí),造成的揮發(fā)正離子動(dòng)能高,離化率也高,因而,涂膜質(zhì)量好。中空負(fù)極射線管對(duì)真空系統(tǒng)的真空值規(guī)定比e型射線管低,并且是應(yīng)用低壓工作中,相對(duì)而言,機(jī)器設(shè)備較簡(jiǎn)易和安全性,工程造價(jià)也低?,F(xiàn)階段,在中國(guó)e型射線管和中空負(fù)極射線管早已取得成功地運(yùn)用于蒸鍍及等離子噴涂的設(shè)施中。槍的效率可達(dá)10幾萬(wàn)千瓦,早已為機(jī)械設(shè)備,電子器件等工業(yè)生產(chǎn)鍍出了各種各樣塑料薄膜。

真空鍍膜機(jī)

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