真空鍍膜的工作原理是膜在高溫下蒸發(fā)，落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜分子產(chǎn)生阻力，造成碰撞，晶體變得粗糙無光，因此晶體必須在高真空下細密明亮。如果真空度不高，晶體就會失去光澤，結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合效率低，光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶，磁控濺射鋯在電場的作用下加速了膜的蒸發(fā)分子的轟擊，濺出了大量的靶原子，中性靶原子(或分子)沉積在基底上成膜，解決了以往自然蒸發(fā)不能加工的膜品種，如鍍鈦鍍鋯等。

由于其頻率高、電流大，中頻設(shè)備必須加入冷卻水。當(dāng)導(dǎo)體流動時，電流具有集膚效應(yīng)，電荷會聚集在導(dǎo)體表面，從而使導(dǎo)體發(fā)熱，因此采用中孔管作導(dǎo)體中間加水冷卻。

磁控控制濺射靶，為什么還要用水冷卻？磁性控制濺射靶在發(fā)射過程中會產(chǎn)生高溫，從而使射槍變形，因此它有一個水套來冷卻射槍。與此同時，磁控濺射也是電鍍技術(shù)中最突出的成就之一。其濺射率高，基片溫度升低，膜-基結(jié)合力好。

對電子在非均勻電磁場中的運動規(guī)律進行了深入的研究，探討了磁控濺射的一般原理，以及磁場的橫向不均勻性和對稱性，這是磁約束的根本原因。磁性控制濺射是鍍膜工藝中最突出的成就之一。其濺射率高，基片溫度升低，膜-基結(jié)合力好，設(shè)備性能穩(wěn)定。

冷卻器是一種水冷設(shè)備，可以提供恒溫，恒流，恒壓的冷卻器。它的工作原理是先向機器內(nèi)的水箱注入一定量的水，通過制冷系統(tǒng)將水冷卻，然后由泵將低溫冷卻水輸送到需要冷卻的設(shè)備中，冷凍水帶走熱量后，溫度升高，再回流到水箱中，達到冷卻的效果?？梢愿鶕?jù)需要自動調(diào)節(jié)冷卻水溫度，長期使用可以節(jié)省用水。

冷卻器可以控制真空鍍膜機的溫度，保證鍍件的優(yōu)質(zhì)。若不配備冷水機，則無法使真空鍍膜機達到高精度、高效率地控制溫度的目的，因為自然水和水塔的散熱必然會受到自然溫度的影響，而且這種控制方式非常不穩(wěn)定。

冷水機組有完全獨立的制冷系統(tǒng)，不受溫度和環(huán)境的影響。水溫在5℃~30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制，可以達到高精度高效控制溫度的目的。冷水機組有獨立的水循環(huán)系統(tǒng)。