電子束鍍膜機(jī)的加熱蒸發(fā)源利用熱陰極發(fā)射電子，在電場(chǎng)的作用下成為高能量密度的電子束，直接撞擊鍍層。電子束的動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能，使鍍層加熱蒸發(fā)，完成蒸發(fā)鍍層。

電子束加熱蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn):

1.電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)W、Mo、Al2O3等高熔點(diǎn)材料，蒸發(fā)速率更高；

2.蒸發(fā)材料放入水冷銅坩堝中，可避免坩堝材料污染，制備高純薄膜；

3.電子束蒸發(fā)顆粒動(dòng)能大，有利于獲得致密結(jié)合力好的膜層。

電子束加熱蒸發(fā)的缺點(diǎn):

1.結(jié)構(gòu)復(fù)雜，設(shè)備價(jià)格昂貴；

2.如果蒸發(fā)源附近的蒸汽密度高，電子束流和蒸汽顆粒會(huì)相互作用，電子通量會(huì)丟失，導(dǎo)致軌道偏移；同時(shí)，蒸汽和殘留氣體的刺激和電離會(huì)影響膜質(zhì)量。

電子束加熱蒸發(fā)源的形式。

電子束蒸發(fā)源由電子槍和坩堝兩部分組成，有時(shí)還附有供給材料的機(jī)械。在很多情況下，產(chǎn)生和控制電子束的裝置和坩堝設(shè)計(jì)成一體。電子束加熱蒸發(fā)源有以下結(jié)構(gòu)形式

1.直線陰極和靜電聚焦蒸發(fā)器。

2.環(huán)形陰極和靜電聚焦蒸發(fā)器。

3.帶軸向槍和靜電遠(yuǎn)蒸發(fā)器。

4.帶軸向槍、磁聚焦、磁偏轉(zhuǎn)90度的蒸發(fā)器。

5.帶橫槍和磁偏轉(zhuǎn)90度的蒸發(fā)器。

6.帶環(huán)形陰極、靜電聚焦和靜電偏轉(zhuǎn)的蒸發(fā)器。

7.E型電子槍蒸發(fā)器，E型電子束蒸發(fā)源發(fā)射的電子軌跡類(lèi)似于e字，所以簡(jiǎn)稱(chēng)E型槍。目前，這種蒸發(fā)源廣泛應(yīng)用于真空蒸鍍工藝。