蒸鍍是物理氣相沉積的一種,與濺射鍍膜和離子鍍膜相比有其優(yōu)缺點:設(shè)備簡單可靠,工藝易于掌握,可以大批量生產(chǎn),蒸鍍的機理簡單,大多數(shù)物質(zhì)都可以采用真空蒸鍍;而鍍層與基材結(jié)合力差,高熔點物質(zhì)和低蒸氣壓物質(zhì)的鍍膜制作難度大,對于鉑、鋁等金屬來說,蒸鍍物質(zhì)所用的坩堝材料也會蒸發(fā),混入蒸鍍物質(zhì)中成為雜質(zhì)。
真空蒸鍍:真空蒸鍍是指通過蒸鍍工藝,將某種物質(zhì)在真空中加熱蒸發(fā),使其沉積于基材表面,從而得到薄膜的一種技術(shù)。揮發(fā)后的物質(zhì)叫做蒸鍍材料。法拉第于1857年首次提出蒸發(fā)式鍍膜工藝,經(jīng)過一百多年的發(fā)展,現(xiàn)在已經(jīng)成為鍍膜工藝的主流技術(shù)之一。通常,真空蒸鍍系統(tǒng)包括三個部分:真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、基片放置和給基片加熱裝置。為了蒸發(fā)真空中的待沉積物質(zhì),需要一個容器來支持或裝入蒸發(fā)物,同時還需要提供蒸熱以使蒸發(fā)物達到所需的蒸汽壓。
蒸鍍過程中各組分均勻度不容易保證,天津真空,具體可調(diào)節(jié)因素同上,但由于原理限制,對于非單一組分蒸鍍而言,各組分均勻度較差。濺射法鍍膜可簡單理解為利用電子激光或高能激光轟擊靶材,將表面組分以原子團或離子的形式濺出,并最終沉積在基體表面,經(jīng)過成膜過程,最后形成薄膜。在真空鍍膜機中,濺射鍍膜又分為多種類型,與蒸發(fā)鍍膜不同的是濺射速率是其主要參數(shù)之一。
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