真空鍍膜磁控濺射方法是什么

2021-01-03 16:42:03

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磁控濺射方法是指電子在電場的作用下加速飛入基底，與氬原子碰撞，電離出大量的氬離子和電子，使電子飛入基底。由于采用高壓電場激發(fā)產生等離子體鍍膜材料，幾乎所有的高熔點金屬都能使用，因此相對于真空鍍膜法成本也較高，但與真空鍍膜法制造工藝相比，磁控濺射法具有鍍膜層與基材層結合力強、鍍層致密、均勻等優(yōu)點。

磁控濺射真空鍍膜設備是指在真空條件下，現有產品采用的多功能鍍膜設備，它由多個系統(tǒng)組成，每一個系統(tǒng)可完成不同的功能，從而達到*的高質量鍍膜，其中包括真空腔、機械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵及成膜控制系統(tǒng)等。

真空鍍膜

真空鍍膜機：鍍膜工藝主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法和溶膠-凝膠法等。利用磁控濺射技術可以設計和制作多層復合膜系，可在白色玻璃基底上鍍上多種顏色，IPG型鐘表鍍膜機是一種耐腐蝕、耐磨、耐腐蝕性能好的鍍膜設備，是目前生產和使用最廣泛的產品之一。與磁控濺射法相比，真空蒸鍍玻璃的種類和質量都有一定的差距，并逐漸用真空濺射法代替?；瘜W氣相沉積法是指在浮法玻璃生產線上，反應性氣體在燒焦的玻璃表面上分解，均勻地沉積形成鍍膜玻璃。