真空鍍膜機(jī)采用不同的鍍膜工藝,其自動化控制系統(tǒng)也不盡相同,即使是相同的鍍膜工藝,由于控制技術(shù)指標(biāo)的不同,所采用的控制系統(tǒng)也不盡相同。微機(jī)自動控制系統(tǒng)、自動控制裝置、工業(yè)自動化儀表、壓力控制儀、真空計及某些自動控制元件等一般鍍膜設(shè)備的基本構(gòu)成,可以實(shí)現(xiàn)對真空鍍膜設(shè)備的程序自動控制、轉(zhuǎn)換鍍膜過程、調(diào)整真空工藝參數(shù)等基本功能。
對真空鍍膜機(jī)的控制系統(tǒng)進(jìn)行選型時,必須能有效地滿足真空鍍膜設(shè)備及其工藝對控制的需要,注意真空鍍膜設(shè)備的各種構(gòu)造與自動控制系統(tǒng)的配合,要求自動控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,成本低,自動化程度不一定很高,但必須保證真空鍍膜設(shè)備安全可靠,使用方便,易于維護(hù)。控制系統(tǒng)對自動控制裝置及其部件、自動儀表的選擇應(yīng)合理。
負(fù)壓鍍膜是膜體在高溫下蒸發(fā)到工件表面的結(jié)晶。因?yàn)榭諝鈱φ舭l(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力而與之發(fā)生碰撞,使得結(jié)晶體變得粗糙而無光,因此必須在高真空下使結(jié)晶體產(chǎn)生細(xì)密光亮,如果真空度不高,結(jié)晶體就會失去光澤,結(jié)合力也很差。利用磁場,加快中頻磁控濺射靶對膜體蒸發(fā)的分子進(jìn)行轟擊,濺射出大量的目標(biāo)原子,使中性目標(biāo)原子(或分子)沉積在基底上,形成薄膜,解決了以往自然蒸發(fā)不能加工的膜體品種。由于高頻高電流大,中頻設(shè)備必須加入冷卻水。當(dāng)電流通過導(dǎo)體的時候,會產(chǎn)生集膚效應(yīng),電荷會聚集在導(dǎo)電表面,從而產(chǎn)生發(fā)熱,因此采用中孔管做導(dǎo)體的中間加水冷卻。
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