真空鍍膜設備主要是指需要在較高真空度下進行的鍍膜,包括多種類型,包括多弧離子真空鍍膜設備,真空離子蒸發(fā),光學鍍膜機,磁控濺射,MBE分子束外延, PLD激光濺射有多種噴涂方法。真空鍍膜的工作原理是薄膜在高溫下在工件表面蒸發(fā)并結晶。由于空氣將對蒸發(fā)的薄膜分子產生阻力,并引起碰撞,使晶體粗糙而晦暗,因此必須在高真空下使晶體細膩明亮。如果真空度不高,則晶體將失去光澤,并且粘合力也非常差。早期的真空鍍膜依賴于蒸發(fā)器的自然散射,加上工作效率低和光澤差?,F(xiàn)在添加中頻磁控濺射靶。磁控射擊靶在電場的作用下加速了膜體蒸發(fā)分子對靶材料的轟擊,濺射出大量靶原子,中性靶原子(或分子)沉積在膜上基材上的薄膜解決了過去無法通過自然蒸發(fā)處理的薄膜類型,例如鍍鈦和鍍鋯。
目前,真空技術越來越廣泛地用于石油,化工,制藥,冶金等行業(yè)的真空蒸發(fā),結晶,蒸餾,升華,干燥,負壓濃縮,脫水,化學反應吸收和真空輸送材料。在加工過程中應用真空技術后,可以節(jié)省能源,減少消耗,加快反應速度,提高產品質量,增加經濟效益。它已逐漸形成共識。但是,真空技術是一門邊緣科學。解放后,中國的真空工業(yè)消化了前蘇聯(lián)和美國。在日本和德國產品的基礎上開發(fā)的。蒸汽噴射真空泵具有真空度高,能耗低,運行穩(wěn)定,無機械摩擦,壽命長,設備安全的優(yōu)點。在具有高真空要求的工作系統(tǒng)中,蒸汽噴射真空泵通常是真空設備。