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真空鍍膜機(jī)的構(gòu)成和不良反應(yīng)該怎么解決

2021-06-26 11:56:13

多功能真空鍍膜機(jī)是磁控濺射、多弧離子鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的混合設(shè)備。在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上,配以圓柱形靶材或平面磁控管靶材。該設(shè)備具有離子鍍的高電離率和高堆積速度的特點(diǎn)。它還具有低溫和磁控濺射穩(wěn)定性的優(yōu)點(diǎn)。適用于各種復(fù)合膜的電鍍。

多功能真空鍍膜機(jī):磁控管、中頻、多弧離子鍍膜

① 發(fā)汗磁控濺射混合設(shè)備:多功能,適合批量生產(chǎn),適應(yīng)性強(qiáng)。

② 磁控濺射與多弧離子鍍的混合應(yīng)用:多弧可提高火炮清洗質(zhì)量,增加薄膜與基體的附著力。與磁控濺射結(jié)合,可以制備復(fù)合膜(高能離子源清洗活化,成膜速度快)。

③ 多中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合應(yīng)用:中頻靶更穩(wěn)定(如鋁),電離率高,堆積速度快,成膜均勻。如反應(yīng)濺射,如鍍SiO2、TiO2等,用不同的原材料多層鍍膜。

④ 射頻、直流、中頻、柱弧混合應(yīng)用:射頻可直接涂覆絕緣保護(hù)膜SiO2/Ag/SiO2

⑤ 圓柱弧、中頻弧和多弧混合應(yīng)用:圓柱弧確保高電離率,減少大顆粒的積聚,具有良好的附著力和表面光潔度。多功能真空鍍膜機(jī)適用于表帶、表殼、眼鏡架、手機(jī)殼、高爾夫工具、衛(wèi)浴、首飾等中高檔產(chǎn)品。

真空鍍膜機(jī).jpg

改進(jìn)措施:


一是加強(qiáng)脫脂去污處理。如果是超聲波清洗,應(yīng)注重脫脂功能,保證脫脂液的有效性;如果是手搓,可以考慮用碳酸鈣粉擦拭后再清洗。


二是鍍前加強(qiáng)烘烤。如果條件允許,基板溫度比較好保持在300以上℃ 保持20分鐘以上,以便盡可能多地?fù)]發(fā)基材表面的水蒸氣和油蒸氣*注:溫度越高,基材的吸附容量越大,且容易吸附灰塵。因此,應(yīng)提高真空室的清潔度。否則,鍍前會(huì)有灰塵附著在基體上,不僅會(huì)造成其它缺陷,還會(huì)影響膜層強(qiáng)度(基體上水汽的化學(xué)脫附溫度在260以上)℃ 在真空中。但并非所有零件都需要高溫烘烤。一些硝酸鹽材料在高溫下膜強(qiáng)度較低,會(huì)出現(xiàn)色斑。它與應(yīng)力和材料熱匹配有很大關(guān)系。


3.在條件允許的情況下,機(jī)組配備PolyCold,不僅可以提高機(jī)組抽真空速度,而且有助于去除基體上的水蒸氣和油氣。


四是提高蒸發(fā)真空度。對(duì)于1米以上的涂布機(jī),蒸發(fā)起始真空度應(yīng)大于3*10-3pa。涂布機(jī)越大,開始蒸發(fā)的真空度越高。


5.在條件允許的情況下,在機(jī)組內(nèi)安裝離子源,鍍前進(jìn)行轟擊,清洗基體表面,輔助涂裝工藝,有利于鍍層的致密性和牢固性。


六膜材料除濕,將培養(yǎng)皿中使用的膜材料放入真空室中干燥。


7.保持工作環(huán)境干燥(包括擦拭鏡片和雨傘工作區(qū)),清潔工作環(huán)境時(shí)不要帶入過多的水蒸氣。


8.對(duì)于多層膜,在設(shè)計(jì)膜系時(shí),應(yīng)考慮第1層膜與襯底的匹配,盡量考慮使用對(duì)大多數(shù)襯底具有良好吸附能力的Al2O3膜材料。對(duì)于金屬膜,也可以考慮第1層Cr或Cr合金。鉻或鉻合金對(duì)基體也有良好的吸附能力。


9.用拋光液(拋光液)去除鏡片表面的腐蝕層(水解層)


同時(shí),降低蒸發(fā)速率有利于提高膜的強(qiáng)度和膜的表面光潔度。


② 薄膜應(yīng)力:


薄膜的成膜過程是物質(zhì)形態(tài)轉(zhuǎn)變的過程。成膜后,薄膜中不可避免地會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力。對(duì)于多層膜,膜材料有不同的組合,每個(gè)膜所反映的應(yīng)力不同,有的是拉應(yīng)力,有的是壓應(yīng)力,還有膜與基體的熱應(yīng)力。


應(yīng)力的存在對(duì)薄膜的強(qiáng)度是有害的。輕的是薄膜不能抵抗摩擦,重的是薄膜破裂或網(wǎng)狀通道。


對(duì)于減反射膜,由于層數(shù)較少,應(yīng)力不明顯,高反射膜和多層濾膜的應(yīng)力是常見的不利因素,應(yīng)特別注意。


改進(jìn)措施:


烘烤后電鍍,烘烤后最后一層薄膜,不要立即停止,繼續(xù)10分鐘“回火”。薄膜結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。


二是適當(dāng)延長冷卻時(shí)間,進(jìn)行退火時(shí)效。降低真空室內(nèi)外溫差大引起的熱應(yīng)力。


三對(duì)高反射膜和濾膜在蒸發(fā)過程中基板溫度不宜過高,溫度過高容易產(chǎn)生熱應(yīng)力。對(duì)氧化鈦和氧化鉭薄膜的光學(xué)穩(wěn)定性也有負(fù)面影響。


3.離子輔助涂層工藝,降低應(yīng)力。


第四,選擇合適的膜系匹配,第1層膜材與襯底匹配(例如,五層減反射膜為al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2;ZrO2也可以使用sv-5(一種ZrO2-TiO2混合薄膜材料)或其他混合高折射率薄膜材料。。


5.適當(dāng)降低蒸發(fā)速率(al2o3-2.5a/s;ZrO2-3A/S;Mgf2-6a/S(參考速率)


六對(duì)氧化膜材料均為充氧反應(yīng)鍍,并根據(jù)不同的膜材料控制氧氣進(jìn)氣量。


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