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為了滿足各種多層薄膜和復(fù)合膜的要求，多功能復(fù)合離子鍍膜機(jī)已成為目前研究發(fā)展的方向和熱點(diǎn)。復(fù)合離子鍍膜機(jī)采用雙目標(biāo)先進(jìn)技術(shù)，克服了直流濺射固有的目標(biāo)中毒、起火等不良缺點(diǎn)，可以鍍AL2o3、SiO2氧化優(yōu)質(zhì)膜，提高鍍層抗氧化耐腐蝕性。
復(fù)合離子鍍膜機(jī)中心安裝柱狀多弧靶，靶為鈦或鋯。它不僅能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積率高的特點(diǎn)，還能有效減少小平面多弧靶沉積過(guò)程中不可避免的液滴缺陷，從而制備低孔隙率的金屬膜或化合特膜；雙胞胎平面磁控靶安裝在周圍，目標(biāo)是鋁或硅，可以鍍Al2O3和SiO2金屬陶瓷膜；中外，周圍安裝多個(gè)小平面多弧蒸發(fā)源，目標(biāo)是鉻或鎳，可以鍍多層金屬膜和多層復(fù)合膜。
復(fù)合離子鍍膜設(shè)備具有多種不同形式的鍍膜裝置和不同材料的蒸發(fā)源和發(fā)射靶，既能獨(dú)立工作，又能同時(shí)工作，既能制備純金屬薄膜，又能制備金屬化合物薄膜或復(fù)合材料薄膜，既能制備單層薄膜，又能制備多層復(fù)合薄膜，廣泛。
多弧離子鍍技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)得到了廣泛的應(yīng)用。隨著科學(xué)技術(shù)和生產(chǎn)的發(fā)展，它將繼續(xù)開拓其應(yīng)用領(lǐng)域。根據(jù)目前的情況，該技術(shù)將在以下幾個(gè)方面發(fā)展很大:
1)新型高效可控弧靶，包括新型電源；
2)除DC外的其他偏壓電源；
3)結(jié)合非平衡磁控濺射技術(shù)的新型蒸發(fā)器；
4)整體結(jié)構(gòu)形式多樣；
5)通過(guò)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)和控制實(shí)現(xiàn)技術(shù)多樣化。
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