在真空干燥設備中具有不同涂層工藝的真空涂層機使用不同的自動控制系統(tǒng),甚至具有相同涂層工藝的真空涂層機也會由于控制技術指標的不同而使用不同的控制系統(tǒng)。通用鍍膜設備自動控制系統(tǒng)的基本組成部分是微機,自動控制設備,工業(yè)自動化儀表,壓力控制器,真空計和一些自動控制組件等,可以實現(xiàn)真空鍍膜設備程序的自動控制,切換鍍膜工藝流程,基本功能,如調整真空工藝參數(shù)。
在選擇真空鍍膜機的控制系統(tǒng)時,前提是它能有效滿足真空鍍膜設備及其鍍膜過程的控制要求,注意真空鍍膜設備的各種結構與自動控制之間的配合程度。系統(tǒng),并且要求自動控制系統(tǒng)具有簡單的結構,經(jīng)濟的,不一定是很高的自動化程度,而是要確保真空鍍膜設備的安全性,可靠性,操作方便和易于維護??刂葡到y(tǒng)在選擇自動控制設備及其部件和自動儀表時應合理。
真空鍍膜是高溫下薄膜主體的蒸發(fā),使其在工件表面上結晶。由于空氣將對蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力,并引起碰撞,使晶體粗糙而晦暗,因此必須在高真空下使晶體細膩明亮。如果真空度不高,晶體將失去光澤,并且粘合力也非常差。中頻磁控濺射靶利用磁控靶,在電場的作用下加速膜體蒸發(fā)分子對靶材料的轟擊,濺射大量靶原子和中性靶原子(或分子)。 )沉積在基板上。膜解決了過去自然蒸發(fā)無法處理的膜品種問題。中頻設備由于其高頻和大電流而必須添加冷卻水。當電流在導體中流動時,會產(chǎn)生集膚效應,電荷會積聚在導體表面,從而使導體發(fā)熱,因此使用中孔管作為導體以添加水進行冷卻。
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