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真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡(jiǎn)而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，從而可以沉積在被涂覆的物體(稱(chēng)為基底、襯底或基體)上。
真空鍍膜技術(shù)是一種材料合成加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體電路、LED屏、觸摸屏、顯示屏行業(yè)，如光學(xué)薄膜、感光薄膜、保護(hù)膜、工具超硬薄膜、納米材料功能薄膜的生產(chǎn)。然而，全球制造業(yè)的快速發(fā)展給真空鍍膜行業(yè)帶來(lái)了巨大的機(jī)遇和挑戰(zhàn)。
與傳統(tǒng)鍍膜工藝相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn):在真空電場(chǎng)條件下，等離子體直接沉積在工件表面形成膜層，避免了電鍍液的污染；還可以將加工溫度控制在500度以?xún)?nèi)，適用于各種基體材料；靶材種類(lèi)繁多，更適合涂覆各種產(chǎn)品。
蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍是真空鍍膜技術(shù)的三種形式，基于這三種技術(shù)的真空鍍膜設(shè)備是形成高質(zhì)量、高性能薄膜的關(guān)鍵。以磁控濺射鍍膜設(shè)備為例，在真空環(huán)境下，充入的氬氣通過(guò)高壓和磁場(chǎng)處于離子狀態(tài)，撞擊靶材，使靶材原子沖向襯底形成薄膜層。
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