真空鍍膜設備檢漏概念及目的

1、真空檢漏 就是檢測真空系統(tǒng)的漏氣部位及其大小的過程。漏氣也叫實漏，是氣體通過系統(tǒng)上的漏孔或間隙從高壓側(cè)流到低壓側(cè)

的現(xiàn)象。

2、虛漏，是相對實漏而言的一種物理現(xiàn)象。這種現(xiàn)象是由于材料放氣、凝結(jié)氣體的再蒸發(fā)、氣體通過器壁的滲透及系統(tǒng)內(nèi)死空間中氣

體的流出  家鄂起實圣系統(tǒng)中氣體崖萬升高的現(xiàn)象。

3、漏率，即單位時間內(nèi)流過漏孔(包括間隙)的氣體量。漏率的單位是帕斯卡X立方米/秒，記為Pam3/ S。為了方便，有時用帕斯卡X升/秒，記為PaL/s.

4、容許漏率:于動態(tài)真空系統(tǒng)，只要其平衡壓力能夠達到所要求的真空度，這時即使存在著漏孔，也可以認為該系統(tǒng)的漏率是容許的，該情況下系統(tǒng)的漏率稱為最天容許漏率。
5、可檢漏率是指某種檢漏方法能夠檢測出的漏率的最小值。

檢漏目的:檢出漏點進行維修，以提升本底真空，保證膜層性能。

肇慶市鴻利達真空設備科技有限公司位于中國主要真空設備制造基地之一的廣東省肇慶市，是一家集研發(fā)、設計、生產(chǎn)及銷售于一體的真空鍍膜機械設備及玻璃機械等制造的企業(yè)。公司一直以科技創(chuàng)新、誠信為本、質(zhì)量至上、節(jié)能環(huán)保、智能控制為宗旨。主要制造的設備有：立式磁控鍍膜生產(chǎn)線、臥式磁控鍍膜生產(chǎn)線、單體蒸發(fā)鍍膜設備、單體磁控鍍膜設備、單體蒸發(fā)+磁控鍍膜設備、多弧離子鍍膜設備、卷繞鍍膜設備、光學鍍膜設備、玻璃清洗設備、淋漆烤干設備、化學反應銀鏡生產(chǎn)線及相關真空機械設備等。設備能生產(chǎn)的工藝膜系有：金膜、銀膜、銅膜、硅膜、鋁膜、硅鋁膜、鋯金膜、鎳膜、鉻膜、鎳鉻膜、銦膜、錫膜、銦錫膜、鈦金膜、不銹鋼膜、等單質(zhì)膜和氧化膜、復合膜、增透膜、增亮膜、光學膜等等。設備能生產(chǎn)的產(chǎn)品有銀鏡、鋁鏡、彩色玻璃、工藝玻璃、光伏玻璃、光電玻璃、光學玻璃、陽光幕墻玻璃、LOW-E幕墻玻璃、ITO導電玻璃、非導玻璃和金屬單質(zhì)膜等，以及PC、PVC、PET等材料表面鍍AR、AF、ITO、非導等工藝。設備主要應用在手機、電子、電器、軍工、家電、五金、玩具、汽車、建筑、建材、燈飾、裝飾等眾多行業(yè)領域。設備配套使用國內(nèi)或國外知名品牌真空泵機組，加上人性化設計理念和智能控制及監(jiān)控系統(tǒng)，使得設備盡善盡美。

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