真空鍍膜的作用

2020-11-14 11:37:37

次

真空鍍膜的作用主要是使鍍膜表面具有高的金屬光澤和鏡面效果，特別是汽車燈罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使鍍膜表面具有極好的阻隔性，提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。根據(jù)氣相金屬生成方式和沉積方式的不同，真空鍍膜分為兩種工藝：熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。而磁控濺射法由于鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)，鍍層致密、均勻，因而更具技術(shù)優(yōu)勢(shì)。負(fù)壓電鍍技術(shù)是指在真空環(huán)境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，由于通常是鋁、錫、銦等金屬的鍍層，所以又稱負(fù)壓金屬化。

本工廠現(xiàn)場(chǎng)1（輪播圖） - 副本.JPG

磁控濺射法是一種物理氣相沉積法，用于制備各種材料的薄膜，如金屬，半導(dǎo)體，絕緣體等。鍍膜過(guò)程中，鍍速與濺射功率、濺射時(shí)間、靶材到基片的距離、工作氣壓等因素都會(huì)影響鍍膜質(zhì)量和厚度。磁控濺射法鍍膜時(shí)，由于耗靶量增大，耗靶量增大，靶基間距增大，當(dāng)其他參數(shù)相同時(shí)，鍍膜性能逐漸下降，不符合要求。在均勻的磁場(chǎng)作用下，薄膜的均勻性受到磁場(chǎng)的影響，磁場(chǎng)不均勻會(huì)引起薄膜位置的偏移。

磁控濺射是70年代在陰極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新的濺射鍍膜方法，因其有效地克服了陰極濺射速率低、電子使襯底溫度升高等缺點(diǎn)而得到了迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用。