真空鍍膜設(shè)備主要是指需要在高真空度下進行的鍍膜,包括多種,包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備、真空離子蒸發(fā)、光學(xué)鍍膜機、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。真空鍍膜的工作原理是薄膜在高溫下蒸發(fā),落到工件表面結(jié)晶。因為空氣會對蒸發(fā)的膜分子產(chǎn)生阻力,造成碰撞,使晶體變得粗糙、暗淡,所以需要在高真空下使晶體變得細小、光亮。真空度不高,晶體會失去光澤,結(jié)合力差。早期真空鍍膜依靠蒸發(fā)物的自然散射,結(jié)合效率差,光澤度差?,F(xiàn)在,隨著中頻磁控濺射靶的加入,膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下受到靶材的轟擊,大量的靶原子被濺射出來,中性的靶原子(或分子)沉積在襯底上形成薄膜,解決了以往自然蒸發(fā)無法處理的膜體品種,如鍍鈦、鍍鋯等問題。
目前,真空技術(shù)在石油、化工、冶金等行業(yè)的真空蒸發(fā)、結(jié)晶、蒸餾、升華、干燥、負壓濃縮、脫水、化學(xué)反應(yīng)吸收和真空輸送過程中的應(yīng)用越來越廣泛。真空技術(shù)應(yīng)用于各種加工工藝后,可以節(jié)能降耗,加快反應(yīng)速度,提高產(chǎn)品質(zhì)量,增加經(jīng)濟效益,并逐漸形成共識。但真空技術(shù)是一門邊緣科學(xué),解放后中國的真空產(chǎn)業(yè)消化吸收了。蒸汽噴射真空泵具有高真空、低能耗、運行穩(wěn)定、無機械摩擦、使用壽命長、設(shè)備安全等優(yōu)點。在高真空要求的工作系統(tǒng)中,蒸汽噴射真空泵通常是選的真空泵設(shè)備。
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